ASTM F 1529-1997 用直列式四点探测器和双配置程序评定薄膜电阻均匀性的标准试验方法
作者:标准资料网 时间:2024-04-28 12:24:47 浏览:9802
来源:标准资料网
下载地址: 点击此处下载
【英文标准名称】:StandardTestMethodforSheetResistanceUniformityEvaluationbyIn-LineFour-PointProbewiththeDual-ConfigurationProcedure
【原文标准名称】:用直列式四点探测器和双配置程序评定薄膜电阻均匀性的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1529-1997
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1997
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:探测法;试验;喷镀金属;点探测;点探测法;薄片电阻;移植层;用直列式四点探测器和双配置程序;聚苯乙烯半导体器件;四;结晶半导体;半导体硅片;硅半导体;集料衬底;布局过程;外延衬底;薄片电阻不均匀性评价
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:L13
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:
【正文语种】:英语
【原文标准名称】:用直列式四点探测器和双配置程序评定薄膜电阻均匀性的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1529-1997
【标准状态】:作废
【国别】:美国
【发布日期】:1997
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:探测法;试验;喷镀金属;点探测;点探测法;薄片电阻;移植层;用直列式四点探测器和双配置程序;聚苯乙烯半导体器件;四;结晶半导体;半导体硅片;硅半导体;集料衬底;布局过程;外延衬底;薄片电阻不均匀性评价
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:L13
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:
【正文语种】:英语
下载地址: 点击此处下载